8月2日，“美德嘉行——韩登安篆刻《西泠印社胜迹留痕（原石）》特展”在中国印学博物馆开幕，观众踊跃。展览展出《西泠印社胜迹留痕》组刻的原石、印谱、印屏、钤拓件和高清照片，包括题签、序文刻石4件、印章45件（其中双面印6件），并辅以孤山胜迹图片，情景式展现这组篆刻作品的艺术魅力和人文内涵。

《西泠印社胜迹留痕》组刻印谱，乃韩登安先生中年篆刻代表作品。自1939年避难方岩开始创作，至1954年初拓本问世，共完成47印。王福庵、孙智敏先生为之序，缘起经过，叙述详尽，情义悠长。1963年西泠印社六十大庆前夕，杭州市政府将柏堂等景点划归西泠印社，遂补刻四印，并将全谱51印及手拓本二部举赠印社志庆。原石由印社庋藏，历劫幸存，至今保存完好。1978年，印社委派茅大容，组织手拓百部出版，流布中外，今真本已难觅见。